无掩膜光刻机UTA系列是将DLP投影仪盒金相显微镜相结合的缩小投影型无掩模曝光系统，其传统系统（用于掩膜光刻的图案投影曝光系统） 可以使用专门为此目的开发的软件来创建想要的图案。

紫外激光直写光刻机设备具备优异的微纳精密图形加工性能，可实现亚微米级成像分辨率与高精度运动定位，融合大面积高效加工与超高加工精度双重优势。主要应用于微型显示芯片光电元器件研发、钙钛矿等环境敏感型新材料研发测试领域，凭借超小型一体化结构，可灵活部署于手套箱内，满足惰性保护气氛下的加工与实验需求。

无掩模紫外激光直写系统可用于微纳结构的高精度图形加工，实现亚微米级分辨率与高精度定位能力。兼具大面积图形加工能力与亚微米级精度保证。应用于微型显示芯片等光电器件的研发，以及钙钛矿等氛围敏感材料的测试场景，其超紧凑体积可实现手套箱恒定氛围内使用。