揭秘低成本无掩模光刻机如何实现微米级快速曝光

本文将介绍一种基于DLP投影技术的无掩模光刻机UTA-1A的组成与工作原理，带您了解其如何实现快速、灵活的图形化光刻。

一、核心组成与工作原理

        UTA-1A系统主要由四个部分构成：DLP投影系统、相机模块、显微镜光学系统以及专用操作软件。其核心为DLP投影系统，该技术基于数字微镜器件（DMD），是一种通过微镜阵列对光进行高速调制的MEMS技术。

        DMD芯片上分布着数百万个可独立控制的微镜，每个微镜对应图像中的一个像素。通过电信号控制微镜的偏转状态，可实现光路的开关调制，进而将设计好的图形投影至光刻胶涂层表面，完成曝光。

二、系统特点与光刻能力

        结合显微镜光学系统，用户可在操作软件中自由设计光刻图形，实现在不同倍率下对微米至毫米级别区域进行曝光。该系统可在数秒内完成一次曝光，最小光刻线宽可达 1μm。

设备结构示意图如下：

三、灵活的设备获取方式

        了解其基本原理后，您可能会觉得光刻并没有想象中那么遥不可及。尽管UTA-1A与工业级光刻设备不在同一量级，但其作为一款入门级无掩模光刻系统，已能满足多数科研或教学场景的需求。

        若您希望自行组装，确实需要一定的光学与机械调试经验；我们也提供成熟整机方案，若您已有适配的显微镜，该系统的成本将更具吸引力，欢迎进一步咨询具体配置与报价。