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2025-1118
悬浮粒子可视化系统:打破微观检测壁垒,赋能行业品质升级在半导体制造、光学元件生产、新材料研发这些对精度要求的领域里,微小粒子的存在就像“隐形”——能不能精准找到它们、分析清楚,直接决定了产品质量能不能达标,研发工作能不能推进。以前用传统方法检测,zd的麻烦就是看不见亚微米级的悬浮粒子,只能靠数据推测,没法直观看到粒子的真实样子,这成了行业提高效率、提升品质的大难题。多场景微粒子可视化解决方案:精准捕捉微观世界,赋能全领域品质管控针对半导体、光学、材料研发等领域的粒子检测痛点,...
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2025-1112
半导体封装迎来测量革命!多光束共聚焦技术破解Bump检测难题在半导体封装领域,一个微小的Bump缺陷就可能造成整个芯片失效。传统测量方法面对日益精细的Bump结构显得力不从心,这时,多光束共聚焦技术横空出世,以亚微米级精度重新定义了测量标准。这项融合精密光学与智能算法的创新技术究竟有何魔力?它又将如何重塑半导体封装行业的品质管控体系?突破测量极限的光学黑科技多光束共聚焦技术的核心在于其革命性的光学系统设计。特殊光源发出的多波长光束,经过高数值孔径物镜精确聚焦,再通过精密的针孔...
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2025-1027
2025-1023
核心保养原则防尘、防潮、防震:这是光学仪器的通用黄金法则。轻柔操作:避免任何粗暴的触碰,尤其是光学元件。定期执行:将保养工作制度化,形成习惯。一、每日保养(每次使用后)这部分工作应在每日实验结束后进行,为第二天的使用做好准备。清洁样品台:目的:防止残留的样品(尤其是油性、腐蚀性物质)污染或腐蚀台面。方法:用吹气球(皮老虎)吹去表面的灰尘和颗粒。用专用的拭镜纸或无尘布,蘸取少量高纯度酒精(如无水乙醇或异丙醇),轻轻擦拭样品台表面。对于顽固污渍,让酒精在表面停留片刻以溶解它,然后...
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2025-818
日本划片机作为精密机械设备,广泛应用于各种行业,尤其是在制造业和电子产品的生产中。为了确保划片机在长期使用中的稳定性和高效性,延长其使用寿命,进行有效的维护是至关重要的。本文将为您介绍如何科学地维护划片机,确保其始终保持最佳工作状态。一、定期清洁设备清洁是延长划片机使用寿命的基础。设备长时间运行过程中,灰尘、油污、金属屑等杂物会堆积在机器内部,影响其运行效率,甚至可能造成设备故障。因此,定期清洁设备至关重要。1.日常清洁:每次使用完划片机后,建议用软布清除表面灰尘,尤其是刀片...
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