CIOE光博会

作为具规模及影响力的光电产业综合性展会，第23届光电博览会将于2021年9月16-18日在深圳国际会展中心举办，同期六展覆盖信息通信、激光、红外、紫外、精密光学、镜头及模组、传感等版块，面向光电及应用领域展示前沿的光电创新技术及综合解决方案，掌握行业最新动向、洞察市场发展趋势、助力企业与光电行业上下游进行商贸洽谈，达成商业合作。北京欧屹科技有限公司此次受邀参展。

在此次展会上，欧屹科技精心准备，带来行业内性价比高的产品，主要展出：双折射测量仪，应力测量仪，白光+激光共聚焦显微镜，激光干涉内径测量仪，奈米级三维形貌仪、无掩膜光刻机等精密光学仪器。

相信通过此次展会的交流，客户对欧屹科技会有一个新的认识，对欧屹科技带来的产品有更进一步的了解，为后续的合作打下基础。

展品介绍：

1， 应力测量仪

来自日本PHL公司的PA和WPA系列双折射应力测量仪，业内*超过70%。其中PA系列，广泛应用于玻璃、各种镜头、人工晶体、SIC、蓝宝石，晶圆等透明或半透明内部缺陷，双折射变化，内部应力分布的测量。WPA系列，高达0-3500nm相位差范围，几乎适用于所有的透明半透明样品的双折射应力测量，特别是 高分子材料，注塑成型制品，薄膜（位相膜）应用广泛，测量数据准确，软件功能强，使用方便快捷。

2， 白光+激光共聚焦显微镜

日本的Lasertec公司的激光+白光共聚焦显微镜是白光＆激光共聚焦融合，实现一般激光（白光）共聚焦显微镜无法实现的高性能与多功能，以双共聚焦光学系为基础，搭载微分干涉观察，垂直白光干涉测定，相差干涉测定，反射分光膜厚测量等功能，通常多台设备才能完成的测量，仅需我们的一台设备就可实现。仪器特点：高放大倍数，高分辨率，高对比度，纳米级异物或损伤的可视化，纳米级透明膜的厚度测量，埃米级型状测试，数毫米宽视野范围纳米型状测量。

3， 激光干涉内径测量仪

Adamand Namiki开发了NMH-01通过微电机和光学成像探头，利用光学干涉实现内型面的测量，内径测量最小可达1.1mm，同时测量内径、真圆度、内型表面粗糙度和形貌。

4， 无掩膜光刻机

无掩膜光刻机UTA系列是将DLP投影仪盒金相显微镜相结合的缩小投影型无掩模曝光系统，其价格底于传统系统（用于掩膜光刻的图案投影曝光系统） ，可以使用专门为此目的开发的软件来创建想要的图案。