返回首页 在线留言 联系我们
首页 > 企业动态 > 北京欧屹科技参加第23届中国国际光电博览会 (CIOE 2021)

企业动态

北京欧屹科技参加第23届中国国际光电博览会 (CIOE 2021)
发布时间:2021-09-15   点击次数:1298次

CIOE光博会

作为具规模及影响力的光电产业综合性展会,第23届光电博览会将于2021年9月16-18日在深圳国际会展中心举办,同期六展覆盖信息通信、激光、红外、紫外、精密光学、镜头及模组、传感等版块,面向光电及应用领域展示前沿的光电创新技术及综合解决方案,掌握行业最新动向、洞察市场发展趋势、助力企业与光电行业上下游进行商贸洽谈,达成商业合作。北京欧屹科技有限公司此次受邀参展。

在此次展会上,欧屹科技精心准备,带来行业内性价比高的产品,主要展出:双折射测量仪,应力测量仪,白光+激光共聚焦显微镜,激光干涉内径测量仪,奈米级三维形貌仪、无掩膜光刻机等精密光学仪器。

相信通过此次展会的交流,客户对欧屹科技会有一个新的认识,对欧屹科技带来的产品有更进一步的了解,为后续的合作打下基础。

微信图片_20210917113649.jpg

展品介绍:

1, 应力测量仪

来自日本PHL公司的PAWPA系列双折射应力测量仪,业内市场占有率超过70%。其中PA系列,广泛应用于玻璃、各种镜头、人工晶体、SIC、蓝宝石,晶圆等透明或半透明内部缺陷,双折射变化,内部应力分布的测量。WPA系列,高达0-3500nm相位差范围,几乎适用于所有的透明半透明样品的双折射应力测量,特别是 高分子材料,注塑成型制品,薄膜(位相膜)应用广泛,测量数据准确,软件功能强,使用方便快捷。

pa.jpg

2, 白光+激光共聚焦显微镜

 

日本的Lasertec公司的激光+白光共聚焦显微镜是白光&激光共聚焦融合,实现一般激光(白光)共聚焦显微镜无法实现的高性能与多功能,以双共聚焦光学系为基础,搭载微分干涉观察,垂直白光干涉测定,相差干涉测定,反射分光膜厚测量等功能,通常多台设备才能完成的测量,仅需我们的一台设备就可实现。仪器特点:高放大倍数,高分辨率,高对比度,纳米级异物或损伤的可视化,纳米级透明膜的厚度测量,埃米级型状测试,数毫米宽视野范围纳米型状测量。

共聚焦显微镜.jpg

3, 激光干涉内径测量仪

Adamand Namiki开发了NMH-01通过微电机和光学成像探头,利用光学干涉实现内型面的测量,内径测量最小可达1.1mm,同时测量内径、真圆度、内型表面粗糙度和形貌。

 

 

内径测量仪.jpg

4, 无掩膜光刻机

无掩膜光刻机UTA系列是将DLP投影仪盒金相显微镜相结合的缩小投影型无掩模曝光系统,其价格底于传统系统(用于掩膜光刻的图案投影曝光系统)可以使用专门为此目的开发的软件来创建想要的图案。

无掩膜光刻机.jpg

 

 

 

 

分享到:

返回列表 | 返回顶部
上一篇 : 没有了    下一篇 :  2020年车载显示盖板高峰论坛成功举办
网站首页 公司简介 产品中心 招聘中心 技术支持 企业动态 联系我们 管理登陆
GoogleSitemap ICP备案号:京ICP备15048507号-2 技术支持:化工仪器网
联系方式

联系人:鲁工  

售前咨询